氣體分子在真空、放電等特殊場合下產生的物質，真空離子清洗 等離子清洗/刻蝕產生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或郭的自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時會發(fā)生輝光，等離子體在電磁場內空間運動，并轟擊被處理物體表面，達到去除表面油污以及表面氧化物，灰化表面有機物，以及其它化學物質，從而達到表面處理、清洗和刻蝕效果，經過等離子處理工藝可以實現有選擇的表面改性。

　真空等離子清洗機特點:

　　1.環(huán)保技術：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環(huán)境無污染。

　　2.廣適性：不分處理對象的基材類型,均可進行處理,如金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料都能很好地處理；

　　3.溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

　　4.功能強：僅涉及高分子材料淺表面（10 -1000A ），可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能；

　　5.低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。

　　6.全過程可控工藝：所有參數可由PLC設置和數據記錄，進行質量控制。

　　7.處理物幾何形狀無限制：大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。